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(8/8)酸化防止剤・光安定剤 活用のコツ

酸化防止剤・光安定剤 活用のコツ

〜高分子材料の酸化劣化機構と劣化防止のための添加剤設計・処方〜

高分子材料の酸化劣化の原因とその対策を解説
酸化防止剤と光安定剤の使い方と性能向上手法も紹介


日 時 2018年8月8日(水)  13:00〜16:30
会 場 東京・品川区大井町 きゅりあん 5階 第1講習室  会場地図
講 師 工学院大学 先進工学部応用化学科 有機高分子化学研究室 講師 山口 和男 
【略歴】

1992年 工学院大学大学院工学研究科工業化学専攻博士課程修了
1992年 工学院大学工学部工業化学科奉職                                                       
1995年 日本MRS優秀論文賞(1995年) 「驚くほど効果的な酸化防止剤の開発」
           独国ドレスデン工科大学客員研究員(Dr. W. D. Habicher 研究室) 
【研究】
高分子安定剤・酸化防止剤の合成と作用機構の解明および性能評価
受講料(税込) 43,200円  (会員受講料41,040円)  会員登録について
定価:本体40,000円+税3,200円
会員:本体38,000円+税3,040円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額21,600円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※会員割引やその他の割引の併用はできません。

 なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、
上記条件を満たしていることを確認後、ご請求書またはクレジット等決済時等に
調整させて頂きます。

備 考資料付・昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中のパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
得られる知識・高分子材料の自動酸化について
・酸化防止剤のはたらきについて
  フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、
  ヒンダードアミン系光安定剤
・酸化防止剤の性能向上
対 象 有機化学および高分子化学の基礎を学ばれていると理解しやすいです。


講演趣旨

 高分子材料は有機化合物であるために、その製造、加工、使用時において自動酸化劣化を受ける。この劣化はその材料に対して品質低下、外観不良などのダメージを与える。本セミナーでは、自動酸化劣化の原因およびそれに対する有効的な対処法としての添加剤使用および添加剤の高性能化について解説します。

※複数名で受講の際は、備考欄に受講される方の「氏名・部署名・メールアドレス」を
ご連絡ください。

(8/8)酸化防止剤・光安定剤 活用のコツ

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講演内容

1.ポリマーの劣化機構
 1.1 劣化と自動酸化
   1) 連鎖開始反応
   2) 連鎖分岐反応
   3) 連鎖停止反応
 1.2 熱劣化
 1.3 光劣化

2.ポリマーの安定化
 2.1 酸化防止剤の役割
   1) 各種製品に対する添加剤
   2) 自動酸化と添加剤の関係
 2.2 フェノール系酸化防止剤
 2.3 イオウ系酸化防止剤
 2.4 リン系酸化防止剤
 2.5 紫外線吸収剤
 2.6 ヒンダードアミン系光安定剤
 
3.添加剤の相互作用
 3.1 相乗作用
   1) HALS NHとフェノール系酸化防止剤の相乗作用
 3.2 拮抗作用
   1) HALS NHとスルホン酸の拮抗作用
   2) HALSとフェールの相互作用
 
4.酸化防止剤の性能向上に関する試み
 4.1 フェノール系酸化防止剤
 4.2 HALS
 4.3紫外線吸収剤

□ 質疑応答 □

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