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(2/27)シランカップリング剤の反応メカニズム解析、 界面(層)形成・表面の反応状態の分析・評価方法

シランカップリング剤の反応メカニズム解析、
界面(層)形成・表面の反応状態の分析・評価方法


~シランカップリング剤で処理した界面では何が起こっているのか~
~「理想」と「実際」の界面層はなぜ違ってくるのか~
~シランカップリング剤を最適に添加、使用するための分析・評価~

■シランカップリング剤の基礎的事項と選択基準■
■加水分解・重縮合の反応進行状況の評価■
■シランカップリング剤の反応に影響する諸因子■
■各種無機・有機界面との界面層形成&界面反応の評価・分析■

シラン処理の効果・反応のはかり方、処理した界面では何が起るのか

加水分解・重縮合反応に及ぼすphの影響、反応前処理の影響、
   溶媒・反応物濃度の影響、反応環境(気相・液相)の影響

処理表面の被覆量の分析・解析と各種分析手法の基礎的事項とその有効性

実用上重要となる各種無機・有機界面との界面層形成と界面反応の評価・分析方法


日 時 2020年2月27日(木)  10:30~16:30
会 場 東京・港区芝公園 機械振興会館  6‐65  会場地図
受講料(税込) 49,500円  (会員受講料47,020円)  会員登録について
定価:本体45,000円+税4,500円
会員:本体42,750円+税4,270円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額24,750円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※会員割引やその他の割引の併用はできません。

 なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、
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調整させて頂きます。

備 考 資料・昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中のパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。

本セミナーはサイエンス&テクノロジー株式会社が主催いたします。
得られる知識 ・シランカップリング剤に関する基礎的事項
・シランカップリング剤の選択基準
・シランカップリング剤反応性評価
・シランカップリング剤の反応性評価に関連する各種表面分析の基礎的事項
  キーワード:シランカップリング剤、ホスホン酸、アルカンチオール、界面反応、有機超薄膜、自己組織化単分子膜

講師

宇都宮大学 工学部 基盤工学科 物質環境化学コース 教授 博士(工学) 佐藤 正秀 氏
【講師紹介】

講演趣旨

シランカップリング剤は無機・有機材料界面でのぬれ、接着性、相容性向上のために広く使われており、さらに近年ではナノスケールで均一化された無機・有機コンポジット/ハイブリッド系材料開発に不可欠なものとなっています。
 本講では、シランカップリング剤の加水分解・重縮合反応に影響するさまざまな因子と反応メカニズムや、実用上重要となる各種無機・有機表面との界面層形成と界面反応の評価・分析方法について概説します。

※複数名で受講の際は、備考欄に受講される方の「氏名・部署名・メールアドレス」を ご連絡ください。

(2/27)シランカップリング剤の反応メカニズム解析、 界面(層)形成・表面の反応状態の分析・評価方法

価格:

49,500円 (税込)

[ポイント還元 2,475ポイント~]
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講演内容

1.シランカップリング剤の反応メカニズム
 1.1 シランカップリング剤の反応
 1.2 加水分解反応
 1.3 重縮合反応

2.シランカップリング剤の反応に影響する諸因子
 2.1 加水分解・重縮合反応に及ぼすphの影響
 2.2 反応前処理の影響
 2.3 溶媒、反応物濃度の影響
 2.4 反応環境(気相・液相)の影響

3.シランカップリング剤の界面層形成
 3.1 酸化物無機材料への界面形成
 3.2 金属無機材料へのメルカプト基を介する界面形成
 3.3 有機材料へのメルカプト基を介する界面形成
 3.4 有機材料へのエポキシ基を介する界面形成
 3.5 有機材料へのアミノ基を介する界面形成
 3.6 チオール/ホスホン酸SAMの概要
 3.7 ヒドロキシ基を介したチオール/ホスホン酸-有機シラン複合膜の形成
 3.8 シランカップリング剤を用いる分子接合界面形成

4.粉体/基板表面とシランカップリング剤の界面層形成評価
 4.1 FT‐IRによる評価
 4.2 BETによる評価
 4.3 ゼータ電位による評価
 4.4 SEM‐EDXによる評価
 4.5 XPSによる評価
 4.6 AFMによる評価
 4.7 接触角測定とXPS、AFM
 4.8 ナノスケールで見る「理想的」界面層と「実際の」界面層

  □質疑応答□

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