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(10/9)【Live配信(Zoom使用)限定セミナー】 リソグラフィの基礎、半導体製造における レジスト材料技術と今後の展望

【Live配信(Zoom使用)限定セミナー】
リソグラフィの基礎、半導体製造における
レジスト材料技術と今後の展望


■リソグラフィ、レジスト材料技術のすべて。■

本セミナーは、Zoomによる【Live配信受講】のみです。会場開催はございません。
※詳細につきましては下記「オンライン配信」の項目をご確認ください。

★ ますます要求が高くなる半導体の高集積化。近づく5nmロジックノード。
★ 半導体の微細化を支えるリソグラフィの基礎、レジスト材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新動向
★ 今後の展望、市場動向についても解説。


日 時 2020年10月9日(金)  10:30~16:30
会 場 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※    
受講料(税込) 49,500円    
定価:本体45,000円+税4,500円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額24,750円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 会員登録について
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※その他の割引の併用はできません。

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料35,200円 定価:本体32,000円+税3,200円
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

 なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、
上記条件を満たしていることを確認後、ご請求書またはクレジット等決済時等に
調整させて頂きます。

ポイント還元 誠に勝手ながら2020年4月1日より、会員割引は廃止とさせて頂きます。
当社では会員割引に代わり、会員の方にはポイントを差し上げます。
ポイントは、セミナーや書籍等のご購入時にご利用いただけます。
会員でない方はこちらから会員登録を行ってください。
配布資料 ・製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
オンライン配信

【Live配信(Zoom使用)セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったLive配信セミナーとなります。
・お申込み受理のご連絡メールに接続テスト用のURL、ミーティングID​、パスワードが記されております。
「Zoom」のインストールができるか、接続できるか等をご確認下さい。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・開催日時にリアルタイムで講師へのご質問も可能です。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます

備 考 ※資料付(事前送付)
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。

本セミナーはサイエンス&テクノロジー株式会社が主催いたします。

講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 氏【元・パナソニック(株)】
【経歴・専門】

1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト材料、微細加工用材料の開発に従事。
2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト材料、EUVレジストの研究開発に従事。


講演趣旨

 メモリー、マイクロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードとなっています。
 本講演では、半導体の微細化を支えるリソグラフィの基礎・最新技術、および、レジスト材料の基礎と、最新のロードマップに基づいたレジスト材料の要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめます。

※複数名で受講の際は、備考欄に受講される方の「氏名・部署名・メールアドレス」を
ご連絡ください。

(10/9)【Live配信(Zoom使用)限定セミナー】 リソグラフィの基礎、半導体製造における レジスト材料技術と今後の展望

価格:

35,200円 (税込) 49,500円 (税込)

[ポイント還元 1,760ポイント~]
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49,500円 (税込)

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35,200円 (税込)

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講演内容

<得られる知識、技術>
リソグラフィの基礎知識・最新技術、レジスト材料の基礎知識、レジスト材料の要求特性、レジスト材料の課題と対策、レジスト材料の最新技術・ビジネス動向が得られます。

<プログラム>
1.リソグラフィの基礎 
 1.1 露光

  1.1.1 コンタクト露光
  1.1.2 ステップ&リピート露光
  1.1.3 スキャン露光
 1.2 照明方法
  1.2.1 斜入射(輪帯)照明
 1.3 マスク
  1.3.1 位相シフトマスク
  1.3.2 光近接効果補正(OPC)
  1.3.3 マスクエラーファクター(MEF)
 1.4 レジストプロセス
  1.4.1 反射防止プロセス
  1.4.2 ハードマスクプロセス
  1.4.3 化学機械研磨(CMP)技術 
  1.5 ロードマップ
  1.5.1 IRDSロードマップ
   1.5.1.1 リソグラフィへの要求特性
   1.5.1.2 レジスト、微細加工用材料への要求特性
  1.5.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢

2.レジスト材料の基礎
 2.1 溶解阻害型レジスト

  2.1.1 g線レジスト
  2.1.2 i線レジスト
 2.2 化学増幅型レジスト
  2.2.1 KrFレジスト
  2.2.2 ArFレジスト
  2.2.3 化学増幅型レジストの安定化技術

3.リソグラフィ、レジスト材料の最新技術
 3.1 液浸リソグラフィ 

  3.1.1 液浸リソグラフィ用トップコート
  3.1.2 液浸リソグラフィ用レジスト  
   3.1.2.1 液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
   3.1.2.2 液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
 3.2 ダブル/マルチパターニング
  3.2.1 リソーエッチ(LE)プロセス
  3.2.2 セルフアラインド(SA)プロセス
 3.3 EUVリソグラフィ
  3.3.1 EUVレジストの要求特性
  3.3.2 EUVレジストの設計指針
   3.3.2.1 EUVレジスト用ポリマー
   3.3.2.2 EUVレジスト用酸発生剤
  3.3.3 EUVレジストの課題と対策
   3.3.3.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
   3.3.3.2 ランダム欠陥(Stochastic Effects)
  3.3.4 最新のEUVレジスト
   3.3.4.1 分子レジスト
   3.3.4.2 ネガレジスト
   3.3.4.3 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
   3.3.4.4 無機/メタルレジスト
 3.4 自己組織化(DSA)リソグラフィ
  3.4.1 グラフォエピタキシー
  3.4.2 ケミカルエピタキシー
  3.4.3 高χ(カイ)ブロックコポリマー
 3.5 ナノインプリントリソグラフィ
  3.5.1 加圧方式
  3.5.2 光硬化方式
   3.5.2.1 光硬化材料
   3.5.2.2 離型剤

4.レジスト材料の技術展望、市場動向

  □質疑応答□

留意事項

※書籍・セミナー・イーラーニングBOOKのご注文に関しましては株式会社イーコンプレスが担当いたします。

当社ホームページからお申込みいただきますと、サイエンス&テクノロジー株式会社から受講券および会場案内等をご指定の住所に送付いたします。
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2.クレジットカード
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10月1日以降にクレジットカードで決済いただくと5%還元されます。
消費者還元期間:2019年10月1日~2020年6月
※還元額の上限はクレジットカード会社毎に決められています。
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3.楽天ID決済
楽天ID決済

4.コンビニ決済
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  1. 同一法人割引き(2名同時申込みキャンペーン)で、「2名で参加」または「3名で参加」を選択してください。
  2. 購入数には、ご参加される人数を入力してください。(2名または3名)
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