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(12/21)【Live配信(リアルタイム配信)】  EUVリソグラフィ最新概論 EUVL 用材料・技術の進化と半導体製造の動向および展望

【Live配信(リアルタイム配信)】 
EUVリソグラフィ最新概論
EUVL 用材料・技術の進化と半導体製造の動向および展望


~AI・5G時代を支える極端紫外線露光技術~
光源、多層膜、反射光学系、反射型マスク技術、レジスト、ペリクル・・etc.

本セミナーは、【Live(リアルタイム配信)配信】のみの開催です。会場開催はございません。

5GやAI対応で益々の高速・大容量・低電力・軽量・小型可が求められる半導体にEUVLが活用され始めた。
iPhone12を筆頭にEUVLを用いた製品も市場に続々と登場! EUVL導入の効果とは?その技術の概要とは? 
次期システム・高NA機の開発概要とは?


日 時 2020年12月21日(月)  10:30~16:30
会 場 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※    
受講料(税込) 49,500円    
定価:本体45,000円+税4,500円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額24,750円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 会員登録について
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※その他の割引の併用はできません。

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料35,200円 定価:本体32,000円+税3,200円
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

 なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、
上記条件を満たしていることを確認後、ご請求書またはクレジット等決済時等に
調整させて頂きます。

ポイント還元 誠に勝手ながら2020年4月1日より、会員割引は廃止とさせて頂きます。
当社では会員割引に代わり、会員の方にはポイントを差し上げます。
ポイントは、セミナーや書籍等のご購入時にご利用いただけます。
会員でない方はこちらから会員登録を行ってください。
配布資料 ・製本テキスト(開催日の4,5日前に発送予定)+PDFテキスト(印刷不可)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
 開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

※PDFテキストはマイページより任意でダウンロードいただきます。(開催の営業日2日前よりダウンロード可)
オンライン配信

【ZoomによるLive配信】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・お申し込みの際は、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして
 接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。

備 考 ※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。

本セミナーはサイエンス&テクノロジー株式会社が主催いたします。
得られる知識 国内外での半導体製造の実情。今後の半導体製造の動向。
EUVL用プラズマ光源・反射光学系・反射型マスク・レジスト材料・ステージなどの技術内容。
受講対象 レジスト・マスク・光源・検査装置等の要素技術開発に携わる企業。
数式等は一切なく、技術をVisualに説明する。

講師

兵庫県立大学 名誉教授 工学博士 木下 博雄 氏
【専門】X線光学、微細加工 【講師紹介


講演趣旨

 Covid-19と米中貿易摩擦の煽りを受け、世の中全体に不景気感が広がっているが、iPhone 12の登場は本格的な5G世代の幕開けを宣言するに十分な効果をもたらした。とくに、AI対応での高速・大容量・低電力に加え、軽量・小型の実現には極端紫外線露光技術の寄与が大きい。ようやく、半導体素子の量産に使われ始めた本技術について詳述する。

※複数名で受講の際は、備考欄に受講される方の「氏名・部署名・メールアドレス」を
ご連絡ください。

(12/21)【Live配信(リアルタイム配信)】  EUVリソグラフィ最新概論 EUVL 用材料・技術の進化と半導体製造の動向および展望

価格:

35,200円 (税込) 49,500円 (税込)

[ポイント還元 1,760ポイント~]
購入数:

参加形態

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LIVE配信で参加

49,500円 (税込)

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テレワーク応援キャンペーン【Live配信/WEBセミナー1名受講限定】

35,200円 (税込)

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講演内容

1.半導体製造の現状
1.1 微細化の効果
1.2 EUVLの概要と導入の効果
1.3 EUVL導入例
1.4 微細化の将来

2.極端紫外線露光の概要と歴史

3.個別技術の進展

3.1 光源開発
1) 要求性能
2) LPP光源の現状と課題
3.2 多層膜技術
1) 多層膜の概要と設計法
2) 多層膜の成膜技術
3) 多層膜の評価
3.3 反射光学系
1) 反射光学系の要求条件
2) 反射光学系の設計法
3) ミラーの加工法と評価
4) ミラー光学系の合わせ法
3.4 反射型マスク技術
1) 反射型マスクの要求条件
2) マスクの構造と製作法
3) マスク検査技術
3.5 EUVレジスト
1) EUVレジストの要求条件
2) レジストの現状
3.6 ペリクル技術

4.次期システム・高NA機の開発概要

5.今後の課題


□質疑応答□

[キーワード]半導体製造技術、極端紫外線リソグラフィー、反射光学系、多層膜
[参考書]Hiroo Kinoshita “Extreme Ultraviolet Lithography-Principles and Basic Technologies Lambert社2016年発行 Amazonにて購入可

留意事項

※書籍・セミナー・イーラーニングBOOKのご注文に関しましては株式会社イーコンプレスが担当いたします。

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4.楽天ID決済

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5.コンビニ決済

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