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(11/8)【名古屋開催】 後発で勝つための知的財産・事業参入戦略

【名古屋開催】
後発で勝つための知的財産・事業参入戦略


〜「後発からの最善の一手」を導くために〜

後発にも勝機あり!
後発の立場から勝つためには、如何なる指針を持って挑めばよいのだろうか。
先行企業に予測される戦略とは? 先使用権の主張に伴うリスクとは?
後発となりながら事業参入の機会を伺っている人におすすめのセミナーです。

日 時 2018年11月8日(木)  10:30〜16:30
会 場 愛知・名古屋市中村区 愛知県産業労働センター ウインクあいち  13F 1308  会場地図
受講料(税込) 48,600円  (会員受講料46,170円)  会員登録について
定価:本体45,000円+税3,600円
会員:本体42,750円+税3,420円
【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン(1名あたり定価半額24,300円)】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※会員割引やその他の割引の併用はできません。

 なお、本システムのお申し込み時のカート画面では割引は表示されませんが、
上記条件を満たしていることを確認後、ご請求書またはクレジット等決済時等に
調整させて頂きます。

備 考資料・昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中のパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。

講師

知財コンサルタント&アナリスト 菅田 正夫 氏 [元 キヤノン(株)]
知的財産権のリサーチ・コンサルティングやセミナー業務に従事する傍ら、「特許情報までも活用した企業活動の調査・分析」、さらには活動の幅を広げ、知財情報をベースとする連載執筆など、知財アナリストの知見を活かした業界動向分析を多分野にわたり行っている。現在では「企業活動に役立つ、知的財産に関わるコンサルティング活動」にも取り組んでいる。公的依頼公演も多数。より詳しい紹介はコチラ

<公的依頼公演一例>
2016「知財人材育成の実際〜企業が望む知財人材と、その育成法〜」
(日本知的財産協会 関東金属機械部会)
2016「企業活動における知財マネジメントの重要性―クローズドとオープンの観点から」
(中国・北京)
2017「実はスゴイ! 知財の世界−企業経験者の立場で,ザックリ俯瞰!」
2017「実はスゴイ! 企業の知財活動−企業経験者の立場から診ると・・・」
(知的財産マネジメント研究会<Smips> 政策研究大学院大学)


講演趣旨

企業間競争においては、魅力的な画期的商品を開発すると同時に、企業間競争を回避するのに有効な事業への参入障壁構築をめざす知的財産戦略が議論されることが多い。しかしながら、企業にとっては、先行する立場を常に確保するのは容易なことではない。
 そこで、事業開発意欲があるにもかかわらず、後発の立場に置かれた際に、企業はどのような特許出願戦略を採るべきかを考えてみたい。後発は先行の築いた事業状況を前もって把握できるので、事業参入は容易なはずだが、参入障壁となる特許網の存在によって阻まれてしまう場合も多い。しかしながら、新商品のヒットや新サービスの普及は、先行にとっては事業開発の成功ではなく、企業間競争の始まりであり、特許もそれを防ぐ決め手にならないことがあるのは皆様がご存知の通りです。

このような現実を踏まえ、本セミナーでは、企業にとっての知財戦略を俯瞰したのち、

 ・先ず、先行企業が取り組むと推察される特許出願戦略を具体的に紹介する
 ・次に、後発企業が対抗策として採るべき特許出願戦略について具体的に述べる

これら相反する二つの立場から議論を進めた特許出願戦略こそが、自社の置かれた立場に適した特許出願戦略を熟慮する際に、最も役立つものと考えています。さらには、後発企業の先行企業に対する対抗事例も紹介します。先行あるいは後発のいずれの立場にあろうとも、本セミナーの内容をご理解いただき、自社の事業開発推進に役立つ、知的財産戦略の立案と具体的な取り組みを実現していただければ幸いです。

※複数名で受講の際は、備考欄に受講される方の「氏名・部署名・メールアドレス」を
ご連絡ください。

(11/8)【名古屋開催】 後発で勝つための知的財産・事業参入戦略

価格:

48,600円 (税込)

[ポイント還元 2,430ポイント〜]
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講演内容

1.粉体とは何か
 1.1 粉体の粒子的性質
  1.1.1 粒子の大きさ
  1.1.2 粒子の形
 1.2 粉体の表面の性質
  1.2.1 表面積、細孔分布など
  1.2.2 表面官能基(水酸基)、電荷、等電点など
  1.2.3 濡れ、分散性など
 1.3 粉体の触媒活性
  1.3.1 粉体表面の酸、塩基点とその簡便な測定法
  1.3.2 粉体の酸化、還元活性と熱測定を用いた粉体の油脂酸化測定法
  1.3.3 光触媒

2.粉体の表面処理
 2.1 固相による表面処理
  2.1.1 メカノケミカル反応、ナノ・ミクロン粒子複合化など
 2.2 液相による表面処理
  2.2.1 還元法、ゾルゲル法、カップリング剤処理、ポリマー(シリコーン、フッ素系)処理など
 2.3 気相による表面処理
  2.3.1 プラズマ処理、物理蒸着法(PVD)、化学蒸着法(CVD)など

3.機能性ナノコーティング
3.1 あるがままの表面を利用した表面処理
   3.1.1 粉体そのものの活性によるプロピレンオキシド、スチレンなどの表面重合
 3.2 環状シロキサンによるナノコーティング
   3.2.1 ただシリコーンガスと接触させるだけの簡単な方法
   3.2.2 細孔を塞ぐことなく1nm以下の均一コーティング
   3.3.3 ナノ薄膜の生成機構
   3.3.4 共存する成分を分解させない粉体の不活性化が実現
 3.3 ナノコーティングされた粉体の焼成
  3.3.1 酸化鉄、二酸化チタンの熱による結晶転移を抑制、焼結防止
  3.3.2 複合酸化物が生成しルイス酸が発現
 3.4 ナノコーティング膜への機能性基の付与
  3.4.1 ヒドロシリル化反応でSi-H基を機能性基に変える
  3.4.2 アルキル基の付加と分散性
  3.4.3 アルコール性水酸基、イオン交換基などの付加
 3.5 機能性ナノコーティングの応用
  3.5.1 化粧品への応用
  3.5.2 塗料への応用
  3.5.3 高速液体クロマトグラフィーへの応用

 □質疑応答・名刺交換□

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