1．パターン形成の基礎
　1-1 レジスト材料とプロセス
　　・プロセスフロー
　　・CAD設計
　　・シフト量
　　・ラインマッチング
　　・レジストの光化学反応
　　・ポジ、ネガ
　　・化学増幅型
　　・EUV
　　・TMAH溶解
　　・ポジ型/ネガ型の選択基準
　1-2 パターン露光描画
　　・露光システム
　　・レイリーの式
　　・重ね合わせ技術
　1-3 レジスト処理装置
　　・HMDS処理
　　・コーティング
　　・現像
　　・乾燥
　　・レジスト除去

2．レジスト寸法と形状最適化
　2-1 コントラスト制御
　　・光学像コントラスト
　　・残膜曲線
　　・溶解コントラスト
　　・現像コントラスト
　2-2 寸法と形状コントロール
　　・露光量／フォーカス依存性
　　・process window
　　・寸法リニアリティー
　　・バルク効果
　　・膜内多重反射
　　・段差部変動
　　・エッチング選択比
　2-3 改善プロセス技術
　　・反射防止膜
　　・PEB
　　・マルチパターニング技術
　　・位相シフト技術

3．レジスト欠陥・トラブル対策
　3-1 致命欠陥
　　・欠陥と歩留まり
　　・配線上異物
　　・致命／非致命欠陥
　　・ショート/オープン欠陥
　　・バブル欠陥
　　・塗布エッジ盛上り
　　・EBRエッジバックリンス
　　・接触異物
　3-2 レジスト剥離
　　・要因
　　・付着エネルギー
　　・乾燥剥離
　　・応力歪み、膨潤
　　・検査用パターン
　・DPAT法
　3-3 レジスト欠陥と対策
　　・ストリーエーション
　　・膜分裂
　　・乾燥むら
　　・ソルベントクラック
　　・ピンホール、はじき
　　・膨れ
　　・パターン変形
　　・現像バブル対策

4．質疑応答
　　（日頃の研究開発、トラブル相談にも応じます）

参考資料
　・塗膜トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）
　・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析法（測定方法）