1．はじめに
　1-1．はじめに
　1-2．「減率乾燥」と「限界含水率」
　1-3．塗工と乾燥（開発とパイロットと量産）
　1-4．フィルムが利用されている製品は?
　1-5．製品に占めるフィルム要素
　1-6．フィルムの構成要素　～厚みと層数～
　1-7．塗る ～ 溶かした液を塗る（Dry厚 ÷ 濃度=Wet膜厚）
　1-8．開発のステップ
　1-9．実験室とRoll To Rollの違い
　1-10．乾かし方も色々
　1-11．日常生活で関わる乾燥（日常の風と熱風乾燥の比較）
　1-12．家庭の乾燥機器（ヘアドライヤー・ハンドドライヤー）
　1-13．乾燥の支配因子

2．【基礎編】 乾燥設備と溶媒の寄与
　2-1．乾燥風の供給方法（並列と直列）
　2-2．乾燥風の供給方法（並行流）
　2-3．乾燥風の吹き出し方式（二次元ノズル）　
　2-4．乾燥風の吹き出し方式（多孔板）　
　2-5．乾燥風の吹き出し方式（浮上系）　
　2-6．溶媒の寄与（水と他の溶媒の違い）
　2-7．乾燥に関わる物性値
　2-8．水系の乾燥速度
　2-9．塗膜の表面温度は湿球温度（空気線図）
　2-10．比エンタルピー（=潜熱+顕熱）
　2-11．水と他の溶媒との違い （1）蒸発潜熱
　2-12．他の溶媒との違い　（2）飽和蒸気圧
　2-13．他の溶媒との違い　（3）飽和蒸気圧と温度
　2-14．各溶媒の空気線図
　2-15．等湿球温度線　（1）水はLewis近似式
　2-16．等湿球温度線　（2）Colburn-Chiltonの相関
　2-17．物質と熱の拡散（ルイス数）
　2-18．乾燥に関わる物性値（蒸発潜熱の見積もり）
　2-19．飽和蒸気圧の温度依存性（アントワンの式）
　2-20．アントワン式の定数A,B,Cは沸点と飽和蒸気圧（常温）で見積もる
　2-21．アントワンの式による推算例（NMP, DMF, DMA, DMSO）
　2-22．有機溶剤系のガス濃度：爆発下限界（Lower Explosive Limit）基準
　2-23．LEL基準ガス濃度による膜面温度の見積もり（エタノール, NMP, DMF, DMA, DMSO）

3．定率期間と減率期間
　3-1．限界含水率と固形分濃度
　3-2．乾燥中の膜内の溶媒移動
　3-3．減率乾燥の実測（水～PVA）

4．【演習】　乾燥計算の練習（第1ラウンド）
　4-1．風量の影響
　4-2．湿度の影響
　4-3．風温の影響
　4-4．溶媒の影響

5．減率乾燥速度
　5-1．簡易計算法（乾燥係数 N＝1/2～2/3）
　5-2．乾燥係数をN＝1にすると?（収束しない）
　5-3．減率乾燥を実測で見積もる手順
　5-4．水系の限界点・仮想点・乾燥点（PVA水溶液）
　5-5．単溶剤系の乾燥速度（親水/疎水性と湿度）
　5-6．2成分系の乾燥（MEK+トルエン、MEK+シクロヘキサノン、MEK+EB）
　5-7．2成分系の乾燥挙動
　5-8．粒子～高分子の混合系（SiO2+PVA）
　5-9．粉体堆積層の減率乾燥（蒸発面の後退と2段階の減率乾燥）
　5-10．共沸混合物の乾燥

6．乾燥設備
　6-1．一般的な構成（予熱・加熱・絶乾・冷却）
　6-2．乾燥方式と伝熱係数
　6-3．各方式の能力比較
　6-4．乾燥効率の支配因子（噴流）
　6-5．噴流の距離と減衰
　6-6．多孔板と二次元ノズル（軸対象とスリット）
　6-7．多孔板と二次元ノズルの乾燥計算
　6-8．多孔板の孔形状
　6-9．幅要因（どこで排気するか?）
　6-10．風の分配と風向（傾斜ノズル）
　6-11．フローティング（浮上系）
　6-12．風の取り回し（直列と並列）
　6-13．風の取り回し（品質と省エネと投資）

7．【演習】 乾燥方式と必要な炉長（第2ラウンド）
　7-1．並行流
　7-2．二次元ノズル
　7-3．多孔板
　7-4．複合ゾーン　

8．乾燥起因の面状トラブルと対策
　8-1．ベナールセル（ゆず肌とマランゴニ効果に影響する物性）
　8-2．ハジキ（メカニズム）
　8-3．クリーン化による異物対策とクリーン度を維持する換気と風速
　8-4．塗工室の換気が誘発する風ムラ
　8-5．レベリングの理論（(Orchard式）と風ムラのレベリング
　8-6．工程クリーン度の診断
　8-7．塗工室と前後ゾーンの圧力バランスと気流の数値解析
　8-8．乾燥初期の風ムラ
　8-9．下向き塗工面による風ムラ対策（密度流）
　8-10．乾燥中の発泡トラブル対策
　8-11．白化現象の原因と対策
　8-12．マイグレーションによる白化
　8-13．不相溶による白化（表面保護フィルム）
　8-14．凝集系の乾燥
　8-15．乾燥過程の粘弾性変化
　8-16．多成分分散物の乾燥時の偏
　8-17．乾燥過程の粘弾性変化（レオインピーダンス）
　8-18．分散粒子の偏析（蒸発 vs 沈降）

9．調湿（膜中の残留溶媒の調整）
　9-1．残留溶媒の調整（絶乾と調湿）
　9-2．調湿時の含水率履歴
　9-3．調湿曲線の表現方法
　9-4．平衡含水率と湿度
　9-5．調湿の支配因子（風速に依存せず）
　9-6．表面抵抗による簡易評価
　9-7．乾燥炉内の調湿

10．赤外線乾燥
　10-1．赤外線の分類
　10-2．LIB生産効率の課題
　10-3．熱風との比較
　10-4．Roll To Roll工程への適用例
　10-5．近赤外線波長制御ヒータ（NIR型）
　10-6．波長制御 乾燥炉
　10-7．近赤外線乾燥の水の低温乾燥
　10-8．赤外線乾燥炉の特許事例
　10-9．レーザー乾燥

11.　実験室のホットプレート乾燥
　11-1．ホットプレートの加熱助走時間
　11-2．ホットプレート（ヒートロール）におけるバッチ乾燥
　11-3．接触熱抵抗の影響（数値計算の例）
　11-4．橘・佐野川の式による接触熱抵抗の見積もり
　11-5．接触熱抵抗の文献値
　11-6．ホットプレートの乾燥試算（DMFで試算）
　11-7．熱風でホットプレート同様に100℃乾燥すると?（DMFで試算）

質疑応答