１．半導体薬液中の不純物
　1.1 汚染物質の種類
　1.2 汚染物質の由来
　1.3 汚染物質の及ぼす影響

２．フィルタの基礎
　2.1 ろ過膜の定義と種類
　2.2 フィルタの種類と構成
　2.3 粒子捕捉メカニズム
　2.4 ろ過膜の特性と評価方法
　2.5 膜材質と濡れ性
　2.6 親水化処理
　2.7 目詰まりとフィルタ寿命

３．半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント
　3.1 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途
　3.2 高純度薬液におけるフィルタ用途
　3.3 フィルタに求められる性能
　3.4 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント
　3.5 フィルタ適用事例
　3.6 先端半導体におけるフィルタ技術動向

４．金属除去フィルタ
　4.1 金属除去フィルタとは？
　4.2 金属除去メカニズム
　4.3 金属除去フィルタの性能評価方法
　4.4 有機溶剤中の金属除去について

　□質疑応答□