(10/22)半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用

セミナー

半導体製造プロセスにおける
フィルタ技術の基礎と選定・活用

分離・除去メカニズムから、プロセス条件に応じたフィルタ選定、歩留まり改善の考え方、金属除去フィルタ、先端半導体におけるフィルタ技術動向までを体系的に解説

受講可能な形式：【ライブ配信（見逃し配信付）】

半導体製造では、薬液中のパーティクルや金属不純物といった汚染物質の適切な管理が、製品品質や歩留まりの向上に重要です。
半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、ろ過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説します。

日　時	【ライブ配信】 2026年10月22日（木） 13:00～16:30
受講料(税込)	49,500円定価：本体45,000円＋税4,500円【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の49,500円）】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。　　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料定価：39,600円定価：本体36,000円＋税3,600円 ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
ポイント還元	誠に勝手ながら2020年4月1日より、会員割引は廃止とさせて頂きます。当社では会員割引に代わり、会員の方にはポイントを差し上げます。ポイントは、セミナーや書籍等のご購入時にご利用いただけます。会員でない方はこちらから会員登録を行ってください。
配布資料	Live配信受講：PDFテキスト(印刷可・編集不可) 　※セミナー資料は、電子媒体(PDFデータ／印刷可)をマイページよりダウンロードいただきます。　　(開催前日を目安に、ダウンロード可となります) 　※ダウンロードには、会員登録（無料）が必要となります。
オンライン配信	【Live配信の視聴方法】【ライブ配信（Zoom使用）セミナー】　ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。・ZoomによるLive配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）【テキスト】　テキストは、電子媒体(PDFデータ／印刷可)をマイページよりダウンロードできます。　　(開催前日を目安に、ダウンロード可となります) 【マイページ】　ID(E-Mailアドレス)とパスワードをいれログインしてください。　　>> ログイン画面
特　典	■ライブ受講に加えて、見逃し配信でも１週間視聴できます■ 【見逃し配信の視聴期間】2026年10月23日(金)～10月29日(木)まで ※このセミナーは見逃し配信付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。 ※ライブ配信を欠席し見逃し視聴のみの受講も可能です。 ※動画は未編集のものになります。 ※視聴ページは、開催翌営業日の午前中には、マイページにリンクを設定する予定です。
備　考	資料　付 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。本セミナーはサイエンス＆テクノロジー株式会社が主催いたします。

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(10/22)半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用

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39,600円 (税込) ～ 49,500円 (税込)

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セミナー講師

日本インテグリス合同会社　Lead Application Engineer　三浦こずえ　氏
専門：応用化学

セミナー趣旨

半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。
本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。

１．半導体薬液中の不純物
　1.1 汚染物質の種類
　1.2 汚染物質の由来
　1.3 汚染物質の及ぼす影響

２．フィルタの基礎
　2.1 ろ過膜の定義と種類
　2.2 フィルタの種類と構成
　2.3 粒子捕捉メカニズム
　2.4 ろ過膜の特性と評価方法
　2.5 膜材質と濡れ性
　2.6 親水化処理
　2.7 目詰まりとフィルタ寿命

３．半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント
　3.1 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途
　3.2 高純度薬液におけるフィルタ用途
　3.3 フィルタに求められる性能
　3.4 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント
　3.5 フィルタ適用事例
　3.6 先端半導体におけるフィルタ技術動向

４．金属除去フィルタ
　4.1 金属除去フィルタとは？
　4.2 金属除去メカニズム
　4.3 金属除去フィルタの性能評価方法
　4.4 有機溶剤中の金属除去について

　□質疑応答□

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