株式会社イーコンプライアンス

この調査報告書は、クリーンルームに関する特許情報を分析し、技術開発の実態把握と今後の開発指針決定に役立てることを目的としています。2011年1月から2022年2月までに出願された公開特許2,708件を対象とし、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」を使用して分析しています。

本報告書では、クリーンルーム技術の全体像を多角的に把握するため、出願人、特許分類（FIやFターム）、発明者、技術内容のキーワードなど、様々な観点から分析を行っています。具体的には、この分野に参入している企業の技術開発状況、特許分類から見た技術傾向、発明者の活動状況、要約や請求範囲に含まれるキーワードから見た技術内容などを詳細に調査しています。

また、業界をリードするトップ企業や、基本技術・重要技術に焦点を当てた個別分析も行っており、クリーンルーム分野における技術開発の中心的な動向を明らかにしています。報告書は、企業（出願人）、技術分類（FI、Fターム）、発明者、技術内容のキーワードなどを対象とした複数のセクションで構成されており、それぞれの観点から技術動向を詳細に分析しています。

本報告書の特徴として、パテントマップによる視覚的な理解のしやすさがあります。全体、特定技術、特定出願人という三つの視点から母集団を分けて分析しており、多角的な技術動向の把握が可能となっています。特に「直近3年間におけるニューアピアランスキーワードランキングリスト」という特別付録は、最新の技術開発動向を推測するのに役立ちます。このリストを活用することで、クリーンルーム分野で最近始まった技術開発の内容や、企業の開発に対する本気度を推測することができます。

この報告書は、量子ドットディスプレイ技術に関する特許情報を詳細に分析したものです。調査目的として、量子ドットディスプレイ技術の全体像、企業別の技術開発動向、2010年1月から2021年6月までの関連技術の推移、企業間の連携状況、2018年1月から2021年6月における注目すべき企業・技術動向、そしてこの分野に強い弁理士（特許事務所）と企業の利用状況を明確にし、今後の開発指針決定に役立てることを目指しています。

特許情報の収集方法としては、2010年1月から2021年6月までに国内出願された量子ドットディスプレイ関連の公開特許を対象としており、総数は2,236件となっています。情報分析には「パテントマップEXZ」（インパテック株式会社製）を使用しています。

報告書は「パテントマップ編」と「パテントチャート編」の2部構成となっています。パテントマップ編では、新規出現した出願人や技術分類による動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析、特許分類分析、キーワード分析、弁理士（特許事務所）の動向分析などが含まれています。特に上位5出願人である半導体エネルギー研究所、ジャパンディスプレイ、三星電子グループ、LGグループ、富士フイルムについては詳細な比較分析が行われています。

本報告書の特徴として、量子ドットディスプレイに関する2010年1月から2021年6月までの出願および2018年1月から2021年6月の最新技術動向が把握できること、関連する弁理士（特許事務所）の動静が読み取れること、そしてパテントマップとパテントチャートによって視覚的に理解しやすい点が挙げられています。

本調査報告書は、2010年1月から2021年6月までの期間に出願された半導体成膜装置に関する10,300件の公開特許を分析したものです。「パテントマップEXZ」ソフトを使用し、出願件数、出願人、技術分類などを多角的に調査しています。

この分析では、関連企業の技術開発状況、技術推移、企業間連携、2018年以降の注目動向、および活発な弁理士事務所の活動状況などを明らかにすることで、今後の開発指針の決定に役立てることを目指しています。

報告書はパテントマップ編とパテントチャート編の2部構成となっており、パテントマップ編では上位出願人（東京エレクトロン、KOKUSAI ELECTRIC、アプライドマテリアルズなど）の分析や特許分類、キーワード分析などを行っています。

視覚的に理解しやすいパテントマップとパテントチャートにより、半導体成膜装置分野の技術動向が効率的に把握できる点が特徴です。

この報告書は、2010年1月から2021年7月までに出願された生分解性プラスチック関連の公開特許2,763件を分析したものです。

本調査では、生分解性プラスチックに関する技術動向を様々な視点から分析し、技術内容の把握、企業の開発推移、技術の消長、企業間連携、最新の注目動向（特に2018年1月～2021年7月）、そして弁理士の活用状況を明らかにすることを目的としています。これにより、今後の開発指針決定に役立てることを意図しています。

報告書は「パテントマップ編」と「パテントチャート編」の2部構成となっています。パテントマップ編では、出願人分析（上位20社の比較や東レ、三菱ケミカル、ユニチカなど上位3社の詳細分析）、特許分類分析、キーワード分析、弁理士動向分析などが含まれています。

この報告書の特徴は、視覚的に理解しやすいパテントマップとパテントチャートを用いて、生分解性プラスチック分野の技術動向と弁理士の活動状況を把握できる点にあります。分析には「パテントマップEXZ」（インパテック社製）が使用されています。

この報告書はフラッシュメモリに関する特許情報を分析したもので、2009年1月から2021年2月までの国内特許出願を対象としています。調査の目的は、フラッシュメモリ技術の概要、企業の技術開発動向の推移、関連技術の出現・消失状況、企業間の連携状況、最近の注目すべき動向、および弁理士と企業の関係性を明らかにすることです。

調査方法としては、対象期間における公開特許6,227件を収集し、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」を用いて分析を行っています。

報告書は大きく分けて「パテントマップ編」と「パテントチャート編」の2部構成となっています。パテントマップ編では、新規出現した出願人や技術分類による動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析、特許分類分析、キーワード分析、弁理士の動向分析などが含まれています。特に上位出願人としては東芝、キオクシア、半導体エネルギー研究所、ルネサスエレクトロニクスが詳細に分析されています。

この報告書の特徴は、フラッシュメモリに関する9年以上の長期的な技術動向と、直近の5年間（2017年1月～2021年2月）における最新動向を把握できる点です。また、関連する弁理士や特許事務所の活動状況も読み取ることができ、パテントマップやパテントチャートによって視覚的に理解しやすい形式となっています。

この分析結果は、フラッシュメモリ分野における今後の技術開発の方向性を決定する上で重要な指針となることが期待されています。

この調査報告書は、半導体露光装置に関する特許情報を分析し、技術動向や企業の開発状況を明らかにすることを目的としています。調査対象は2009年1月から2021年2月までに出願された国内特許公報23,815件となっています。

本報告書では、半導体露光装置の技術内容、各企業の技術開発動向の推移、関連技術の出現・消失状況、企業間の連携状況、2017年1月から2021年2月における注目すべき企業・技術動向、そしてこの分野に強い弁理士と企業の利用状況などを分析しています。これらの情報は今後の開発指針決定に役立てることを意図しています。

報告書はパテントマップ編とパテントチャート編の2部構成となっています。パテントマップ編では、新規出現した出願人や技術分類による動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析（キヤノン、エーエスエムエルネザーランズ、ニコン、東京エレクトロン、富士フイルムなど）、特許分類分析、キーワード分析、弁理士（特許事務所）の動向分析などが含まれています。

特徴としては、2009年1月から2021年2月までの出願、特に2017年1月から2021年2月の最新技術動向が把握できること、関連する弁理士（特許事務所）の動静が読み取れること、そしてパテントマップやパテントチャートにより視覚的に理解しやすくなっていることが挙げられます。

調査報告書の作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」（インパテック株式会社製）が使用されています。

この調査報告書は、CFRP（炭素繊維強化プラスチック）に関する技術動向を特許情報から分析し、今後の開発指針決定に役立てることを目的としています。

本報告書では、2009年1月から2021年2月までに出願された公開特許5,204件を対象に、出願件数、出願人、発明者、特許分類、キーワードなどを様々な角度から分析しています。特に、どのような技術が存在するか、各企業の技術開発動向はどう推移しているか、関連技術の出現・消失状況、企業間の連携状況、2017年以降の注目すべき動向、そしてこの分野に強い弁理士と企業の利用状況などを明確にすることを試みています。

情報収集には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」を使用しており、報告書はパテントマップ編とパテントチャート編の2部構成となっています。

パテントマップ編では、2017年以降に新規出現した出願人や技術分類による動向分析、2014年8月以降の動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析（特に東レ、三菱ケミカル、トヨタ自動車、帝人の4社に注目）、主要特許分類の分析、そして性能系（可撓性、含浸性、成形性、耐衝撃性など）のキーワード分析を行っています。また、この分野における弁理士や特許事務所の動向も分析対象としています。

本報告書の特徴として、対象期間内のCFRP関連技術動向が視覚的に理解しやすいこと、特に2017年以降の最新動向に焦点を当てていること、関連する弁理士や特許事務所の動静が把握できること、そしてパテントマップやパテントチャートによって視覚的な理解を助けていることが挙げられます。

この調査報告書は、CAD/CAM/CAEに関する特許情報を分析し、技術開発動向や企業戦略の把握を目的としています。2009年1月から2021年2月までの期間に出願された国内公開特許8,349件を対象としており、様々な角度からの分析を通じて今後の開発指針決定に役立てることを意図しています。

調査の主な目的は、CAD/CAM/CAEの技術動向、企業別の開発推移、技術の出現・消失状況、企業間連携、直近5年間における注目すべき動向、そして弁理士（特許事務所）と企業の関係性を明らかにすることです。

報告書はパテントマップ編とパテントチャート編の2部構成となっています。パテントマップ編では、新規出現した出願人や技術分類による動向分析、上位出願人の比較・個別分析、特許分類分析、CAMおよびCAE関連の出願人分析、キーワード分析、弁理士の動向分析などが含まれています。特に注目すべき上位3出願人として富士通、日立製作所、ルネサスエレクトロニクスが挙げられています。

この報告書の特徴として、2009年から2021年にかけての長期的な技術動向と、特に2017年以降の最新動向が把握できること、関連する弁理士（特許事務所）の活動状況が分かること、そして視覚的に理解しやすいパテントマップやパテントチャートが用いられていることが挙げられます。

分析には「パテントマップEXZ」（インパテック株式会社製）が使用されており、特許情報の多角的な解析によって、この分野における技術開発と知的財産戦略の全体像を捉えることができる内容となっています。

この調査報告書は、「消毒殺菌装置」に関する特許情報を多角的に分析し、技術開発動向を明らかにすることを目的としています。調査対象は2009年1月から2021年2月までの期間に出願された国内公開特許で、総数は5,428件です。この分析により、消毒殺菌装置の技術内容、企業ごとの技術開発の推移、関連技術の出現・消失状況、企業間の連携状況、近年の注目すべき動向、さらには弁理士（特許事務所）の活用状況などを明確にして、今後の開発指針の決定に役立てることを目指しています。

報告書の構成は大きく分けてパテントマップ編とパテントチャート編の2部構成となっています。パテントマップ編では、新規出願人や技術分類による動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析、特定出願人（大日本印刷、パナソニック）の比較分析、特許分類分析、キーワード分析、弁理士の動向分析などが含まれています。特にキーワードについては発明の名称、要約、請求の範囲から抽出しています。

この報告書の特徴として、2009年1月から2021年2月までの「消毒殺菌装置」に関する出願動向、特に2017年1月から2021年2月の最新技術動向が分かりやすく把握できること、関連する弁理士（特許事務所）の動静が読み取れること、そしてパテントマップやパテントチャートにより視覚的に理解しやすい形式で提示されていることが挙げられます。

調査には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」（インパテック株式会社製）が使用されています。

本報告書は非接触入力装置に関する特許情報を調査・分析したものです。調査は国内出願日2009年1月から2021年2月までの期間で行われ、合計2,530件の特許情報公報が収集されました。

報告書では非接触入力装置の技術内容、企業の技術開発動向の推移、関連技術の出現・消失状況、企業間の連携状況、2017年1月から2021年2月における注目すべき企業・技術動向、さらにこの分野に強い弁理士（特許事務所）と企業の利用状況などを明らかにしています。

特許情報の収集には「パテントマップEXZ」（インパテック社製）が使用されており、報告書は「パテントマップ編」と「パテントチャート編」の2部構成となっています。パテントマップ編では新規出現出願人の動向分析、全般分析、上位出願人の比較・個別分析（特に三菱電機、パナソニック、アルプスアルパインの3社に注目）、特許分類分析、キーワード分析、弁理士の動向分析などが行われています。

本報告書の特徴として、非接触入力装置に関する技術動向を視覚的に理解しやすくまとめられていること、関連する弁理士（特許事務所）の動静が把握できること、パテントマップとパテントチャートにより視覚的に理解しやすい形式になっていることが挙げられます。

この調査報告書は今後の開発の指針決定に役立てることを目的としており、非接触入力装置の技術開発に関わる方々にとって有益な情報源となることが期待されます。