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(10/22)ガラスの破損防止・高強度化技術

(10/22)ガラスの破損防止・高強度化技術

44,000円(税込)
ガラスは優れた光学特性、耐熱性、耐薬品性を有する一方、微小欠陥や表面損傷を起点として脆性的に破壊する材料である。近年、半導体関連部材、電子デバイス、ディスプレイ、光学部材などでガラスの適用範囲が拡大しており、破損防止と高強度化への要求が高まっている。本講演では、ガラスの破壊メカニズムを基礎から解説するとともに、強度・靭性評価法、破壊解析手法、破損原因の考え方について説明する。
(10/22)超臨界・亜臨界流体を用いた高分子系材料技術の革新と応用展開

(10/22)超臨界・亜臨界流体を用いた高分子系材料技術の革新と応用展開

39,600円(税込)
超臨界/亜臨界流体の基礎とその特異な溶媒特性を解説し、有望なプラスチックのリサイクルおよび合成・化工技術の現状と課題、今後の方向について説明する。更に超臨界/亜臨界流体を用いる実験装置の製作・実験方法を説明する。
(10/22)MOF・ゼオライトの構造制御と分離材料応用

(10/22)MOF・ゼオライトの構造制御と分離材料応用

39,600円(税込)
金属有機構造体(MOF)およびゼオライトは、分子レベルで細孔構造を制御できる代表的な多孔性結晶材料であり、ガス分離、吸着、触媒、エネルギー・環境分野など幅広い用途への展開が進められています。特に近年では、単なる高比表面積材料としてだけでなく、構造柔軟性やイオン移動、細孔環境制御を利用した高度な分離・認識機能が注目されています。
(10/22)半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用

(10/22)半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用

39,600円(税込)
半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。
(10/22)Roll To Roll塗工製品製造における乾燥技術のコツとツボ

(10/22)Roll To Roll塗工製品製造における乾燥技術のコツとツボ

39,600円(税込)
機能性フィルムをRoll To Rollのウェット工程で製造する際、塗って乾かす工程が必ず必要になる。この中で、乾燥工程は膜質に大きく影響し、新製品開発をスケールアップして量産機で試作しても、少量品の品質性能を再現しにくい一因である。更に乾燥速度は生産能力速度に直結するので、品質を損なわずに生産性を保つ乾燥方法と条件を見つめなければならない。
(10/23)CO2排出量算定の基礎と実務

(10/23)CO2排出量算定の基礎と実務

22,000円(税込)
CO2排出量の算定は、カーボンニュートラルを目指す出発点であり、経営基盤を支え、情報開示や取引先対応にも直結する重要テーマです。本セミナーでは、「CO2排出量算定の基礎と実務-Scope1・2・3からカーボンフットプリント(CFP)の算定・活用まで-」をテーマに、算定の基本的な考え方から、データ収集、排出係数の選定、算定境界の設定、精度管理までを体系的に解説します。
(10/23)【オンデマンド配信】これだけは押さえておきたい 磁性応用のための入門講座

(10/23)【オンデマンド配信】これだけは押さえておきたい 磁性応用のための入門講座

44,000円(税込)
【オンデマンド配信】これだけは押さえておきたい 磁性応用のための入門講座
(10/27)水性インクジェットインクの要求性能と設計、有力企業ごとの特許出願や製品特長比較

(10/27)水性インクジェットインクの要求性能と設計、有力企業ごとの特許出願や製品特長比較

44,000円(税込)
環境対策の一環として油性インクから水性インクへの移行が進行し、水性インクジェットの需要が高まっている。しかし、水性インクジェットインクは、油性インクやUVインクに比して、速乾性や非吸収面への対応等に、課題がある場合も多く、インク設計には、工夫が必要である。
(10/27)粉体の付着力・付着性の基礎と付着が関与する粉体操作の要点

(10/27)粉体の付着力・付着性の基礎と付着が関与する粉体操作の要点

44,000円(税込)
微小な粒子状固体の集合体は「粉体」と呼ばれます。この粉体を製造プロセス中で取り扱うと必ず問題となるのが「付着」です。この付着のし易さを表わす言葉が「付着性」ですが、この「付着性」は「付着力」と混同されているようです。そこで、本講座では、まず「付着性」と「付着力」の関係を整理してみます。
(10/27)光導波路の基礎と集積化技術

(10/27)光導波路の基礎と集積化技術

39,600円(税込)
光導波路およびそれを基盤とする光集積回路は、現代の高速・大容量光通信システムや光センサーを支える中核技術であり、次世代の光ネットワークや光デバイス開発においても不可欠な技術です。本セミナーは、光技術を初めて学ぶ方や、光導波路・光集積回路技術に関心を持つ他分野の技術者・研究者の方々を対象に、光導波路技術の基礎から応用までを体系的に学んでいただくことを目的としています。

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