株式会社イーコンプライアンス

リソグラフィー技術：2セミナーセット

極端紫外線リソグラフィー技術について、Low NA EUVL, High NA EUVL, Hyper NA EUV, 短波長EUVLについてリソグラフィーの特徴と、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等基盤 技術全般に亘り解説します。

一般的に高分子はニートレジンのままでは成形加工性や最終製品の要求性能を満足させることは困難で、各種添加剤が適宜選択・配合設計される。しかるに、例えばポリ乳酸（PLA）に耐衝撃性を付与するために主剤との相溶性に優れる可塑剤を用いると、耐衝撃性は向上しても強度・弾性率は半減しTgも室温以下に低下する。

化学プロセスのスケールアップ検討の進め方とトラブル事例・対策

複雑で大規模な実問題を高速に解きうる誤り耐性型汎用量子コンピュータの開発が期待されている。その実現に向けては量子ビットの高忠実度と高集積度の両立が必要である。様々な系で量子ビットハードウェア研究開発が進められており、半導体量子ビットも有力な候補の1つである。

半導体の微細化はコストや集積度の面で課題が指摘されるようになっており、こうした中、チップレットやヘテロジニアスインテグレーションなど、パッケージ技術によるシステム統合の重要性が高まっている。本講演では、先端パッケージの構造と技術トレンド、市場動向、サプライチェーンの変化を俯瞰しながら、日本のポジションと今後の課題について考察する。

ここ数年、AI技術と計算科学を組み合わせた「ニューラルネットワーク分子動力学シミュレーション」が、大学などの研究機関のみならず、企業においても大きな注目を浴びています。

ポリマー材料との複合化に用いられるフィラーは、近年ではポリマーの特性向上や新機能の付与のための無機・有機化合物として注目されている。フィラーには、球状・板状・繊維状の多様な形状を有する化合物があり、そのサイズも数１０μｍ～数ｎｍの幅広いサイズのものが使用されることから、多様な用途での要求特性に合わせた配合設計・分散技術・成形加工技術を適用させて行くことが求められる。

人工皮革・合成皮革は、衣料・靴・カバン等のファッション素材や、家具・車両を含めたインテリア素材として広く用いられています。本講演では、「人工皮革・合成皮革とは？」からはじまり、人工皮革と合成皮革などの構造上の違い、それらに使われるポリウレタン樹脂の組成、物性、劣化とその評価方法について解説すると共に、最近のサステナブルな材料による合成皮革やヴィーガンレザーと呼ばれるものについても解説します。

ICH M7ガイドラインの発出後約10年経ち，今までに2回の改訂や補遺が，更にCohort of Concernに属するニトロソアミンに特化したガイダンスも発出され，変異原性不純物に関連したガイドラインは新たな知見や研究に基づきタイムリーにアップデートされている。本セミナーでは初級担当者を対象としてこれらのガイドラインを理解するために役立つ基本的な知識や考え方を中心に講演する。