カートをみる マイページへログイン ご利用案内 お問い合せ お客様の声 サイトマップ

当社コンサルテーションへのご要望・ご質問・お問合せはこちら

HOME > 書籍 > エレクトロニクス | 化学・材料

商品一覧

並び順:

説明付き / 写真のみ

1件〜2件 (全2件)

[書籍] プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

[書籍] プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

54,000円(税込)
プラズマCVDで「所望の薄膜」を形成するには……本書はそのプロセスへの近道を示す1冊でありたいという想いから、ご執筆様方の多大なるご理解ご協力のもとに発刊されました。

 プラズマCVDでは反応系が複雑であるがために、時には場当たり的に成膜条件・レシピを確立させることがあるかと存じます。しかし、もし少しでも狙いが定められるなら、少しでも条件が絞り込めるなら、プロセスの確立とそしてその先に待つ「プラズマCVDの恩恵を受けた部材/製品の開発」により近づくことができるのでは、という考えを基盤として本書を構成しました。

 本書1章は「なぜプラズマCVDを使うのか」という問いに始まり、プラズマCVDをはじめとした各成膜手法の利点と欠点を整理・比較しています。その目的は「なぜプラズマCVDを使うのか」という問いに強い説得力をもって答えられるように、その立ち位置を理解する必要があるからだと述べられています。2章ではプロセスプラズマを操る上で理解すべき物理的側面としてプラズマの電磁気学的な構造を、3章は物理的側面と同等に重要な化学反応や輸送過程といった化学工学的な側面を、そして4章には成膜メカニズムがかなり詳細に明らかにされた成膜例をもとに、最終的な膜構造に直結する表面反応の機構が解説されています。
つづく5章ではa-Si:H系膜を堆積する場合を例に成膜時に考慮すべき事柄を、最後に、6章では各専門家が得た成膜プロセス最適化への影響因子に関する貴重なご知見を詳述していただだきました。

 本書発刊にあたり、大阪市立大学 白藤立先生をはじめとしたご執筆様方に多大なるご理解ご協力を頂いたことへ、あらためて心から感謝の意を表します。
[書籍] <テクニカルトレンドレポート> シリーズ3マイクロLED製造技術と量産化への課題・開発動向

[書籍] <テクニカルトレンドレポート> シリーズ3マイクロLED製造技術と量産化への課題・開発動向

21,600円(税込)
・開発過熱の背景は、サムスン・LG・アップル・台湾・中国の覇権争い?
  ・LEDとμ-LEDの違い、他方式ディスプレイとの違いからその基礎を理解
  ・μ-LEDおよびμ-LEDディスプレイの量産化の課題はどこに?【4つの課題を解説】
    (1)超小型化(マイクロ化)   (2)独立駆動化(絶縁)
    (3)1面発光=側面反射(遮光)  (4)電気配線(ミクロ回路)形成
  ・照明・バックライト用LEDの小型パッケージ化技術(CSP-LED)
    光通信用半導体技術(RCLED、VCSEL、LD)の転用が課題解決の一つのアプローチに?
  ・特許情報から探る各社・研究機関の動き
  ・ディスプレイだけじゃない?μ-LED応用で高付加価値化が見込まれる用途とは
  ・「新規技術は、既存技術の実力および革新力を見くびってはいけない―」
    過去のディスプレイ技術の変遷に鑑みてμ-LEDディスプレイの今後を考える。     などなど

1件〜2件 (全2件)

ページトップへ