(5/28)【オンデマンド配信】よくわかる、半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

日　時	【オンデマンド配信】 2026年5月28日（木） 23:59まで申込み受付中【収録日：2025年5月27日（映像時間：4時間22分）】　映像時間：4時間22分
受講料(税込)	55,000円定価：本体50,000円＋税5,000円【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の55,000円）】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。　　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料定価：44,000円定価：本体40,000円＋税4,000円 ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
ポイント還元	誠に勝手ながら2020年4月1日より、会員割引は廃止とさせて頂きます。当社では会員割引に代わり、会員の方にはポイントを差し上げます。ポイントは、セミナーや書籍等のご購入時にご利用いただけます。会員でない方はこちらから会員登録を行ってください。
配布資料	PDFテキスト(印刷可・編集不可)：マイページよりダウンロード講師メールアドレスの掲載：有　※セミナー資料は、電子媒体(PDFデータ／印刷可)をマイページよりダウンロードいただきます。　※ダウンロードには、会員登録（無料）が必要となります。
会　場	【オンデマンド配信】オンライン配信
オンライン配信	オンデマンド配信　►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
備　考	※セミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。 ※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております。本セミナーはサイエンス＆テクノロジー株式会社が主催いたします。

セミナー講師

反応装置工学ラボ・代表　羽深等　氏　【横浜国立大学名誉教授】
＜主な経歴＞
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院名誉教授　2022年４月
反応装置工学ラボ　代表　2022年4月～
＜研究分野＞
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析
＜WebSite＞
反応装置工学ラボ

セミナー趣旨

半導体洗浄の基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって清浄面であることの意味と価値、薬液の働き方を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をどのようにしているのか分かります。ここでは、身近な流れ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れの可視化実験動画を見て感覚をつかみ、数値シミュレーション結果で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動きを動画により理解します。それにより、洗浄機内の流れが結果を左右すること、流れを変えて使う工夫、微細パターン洗浄の特徴を考え、トラブル時の視点と対策を紹介します。

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(5/28)【オンデマンド配信】よくわかる、半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

価格:

44,000円 (税込) ～ 55,000円 (税込)

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テレワーク応援キャンペーン【オンライン配信1名受講限定】	44,000円 (税込)	在庫あり
2名同時申込みで1名分無料	55,000円 (税込)	在庫あり
ライブ配信で参加	55,000円 (税込)	在庫あり
アーカイブ受講で参加	55,000円 (税込)	在庫あり

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＜習得できる知識＞
・半導体洗浄を構成する要素と要点
・目的に合わせた清浄の定義
・キレイに仕上げるための表面と流れの工夫
・洗浄条件設計方法
・流れ・気泡などの使い方と作り方

＜プログラム＞
１．洗う理由：汚れの種類と由来

２．半導体洗浄の４要素：温度、時間、化学、力学

３．半導体の洗浄に特有のこと

４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　　5.1.1 表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
　　5.1.2 洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
　　5.1.3 ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
　5.2 流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 身近な流れの可視化観察例

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ
　　　　　（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
　　6.1.2 化学反応の例
　　　　　（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ
　　　　　（観察動画と計算例）
　　6.2.2 水流を最適化した事例
　　　　　（水噴出角度、槽内循環流）
　　6.2.3 ウエハ挿入と取出しにおける汚れの動き
　　6.2.4 上下揺動の効果
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
　　6.3.1 超音波出力と水の動き
　　6.3.2 ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
　　6.3.3 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点

７．洗浄の評価方法（実験・計算・観察）

８．狭い空間の洗浄
　8.1 液の侵入と濡れ（親水性・疎水性）
　8.2 狭い空間における反応の速度
　8.3 微細パターンの洗浄面積（パターン表面積≫見かけのウエハ面積）

９．まとめ：困った時の視点と対策（流れと境界層）
　9.1 洗えない時
　9.2 洗えるが残る時

■Ｑ＆Ａ■
　このセミナーの内容に関する質問に限り、講師とQ&Aをすることができます。
　具体的には配布資料に講師のメールアドレスを記載していますので、講師へ直接のメールにてご質問いただけます。
　（ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。）

※書籍・セミナー・手順書のご注文に関しましては株式会社イーコンプレスが担当いたします。

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