(7/23)半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術

セミナー

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術

■半導体ウェット洗浄の必要性、洗浄の方法／原理、技術トレンド■■乾燥の技術トレンド、次世代半導体の洗浄課題、先端洗浄・乾燥技術■

受講可能な形式：【ライブ配信】のみ

日　時	【ライブ配信】 2026年7月23日（木） 13:00～16:30
受講料(税込)	49,500円定価：本体45,000円＋税4,500円【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の49,500円）】 ※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。 2名様以降の受講者は、申込み前に会員登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。　　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 ※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料定価：39,600円定価：本体36,000円＋税3,600円 ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
ポイント還元	誠に勝手ながら2020年4月1日より、会員割引は廃止とさせて頂きます。当社では会員割引に代わり、会員の方にはポイントを差し上げます。ポイントは、セミナーや書籍等のご購入時にご利用いただけます。会員でない方はこちらから会員登録を行ってください。
配布資料	Live配信受講：PDFテキスト(印刷可・編集不可) 　※セミナー資料は、電子媒体(PDFデータ／印刷可)をマイページよりダウンロードいただきます。　　(開催前日を目安に、ダウンロード可となります) 　※ダウンロードには、会員登録（無料）が必要となります。
オンライン配信	【Live配信の視聴方法】【ライブ配信（Zoom使用）セミナー】　ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。・ZoomによるLive配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）【テキスト】　テキストは、電子媒体(PDFデータ／印刷可)をマイページよりダウンロードできます。　　(開催前日を目安に、ダウンロード可となります) 【マイページ】　ID(E-Mailアドレス)とパスワードをいれログインしてください。　　>> ログイン画面
備　考	資料　付 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。本セミナーはサイエンス＆テクノロジー株式会社が主催いたします。

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(7/23)半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術

価格:

39,600円 (税込) ～ 49,500円 (税込)

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2名同時申込みで1名分無料	49,500円 (税込)	在庫あり
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セミナー講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
R&D戦略統轄部アライアンス推進部先端プロセス開発課　塚原隆太　氏
[経歴]
2019年~(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ入社
[活動内容]
枚葉式洗浄装置を使ったデモ評価や乾燥技術の開発
[WebSite]
https://www.screen.co.jp/spe/

セミナー趣旨

半導体製造において、品質／歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。
本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

＜得られる知識・技術＞
・半導体製造におけるウェット洗浄の役割を基礎から理解できる。
・半導体ウェット洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる。
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる。

＜プログラム＞
１．半導体ウェット洗浄の必要性
　1.1 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
　1.2 洗浄装置の役割
　1.3 洗浄の除去対象

２．半導体ウェット洗浄の方法/原理
　2.1 洗浄装置の種類
　2.2 異物の除去
　2.3 異物の付着抑制

３．洗浄の技術トレンド
　3.1 洗浄と半導体の歴史
　3.2 従来の洗浄技術

４．乾燥の技術トレンド
　4.1 乾燥と半導体の歴史
　4.2 従来の乾燥技術

５．次世代半導体の洗浄課題
　5.1 半導体デバイスのトレンド
　5.2 洗浄の技術的課題
　5.3 洗浄装置に求められる機能

６．先端洗浄・乾燥技術
　6.1 最新の洗浄技術
　6.2 最新の乾燥技術
　6.3 シミュレーション技術

７．まとめ

　　□質疑応答□

※書籍・セミナー・手順書のご注文に関しましては株式会社イーコンプレスが担当いたします。

当社ホームページからお申込みいただきますと、サイエンス＆テクノロジー株式会社より、お申込み時にご入力いただきましたメールアドレスにご視聴方法のご案内をお送りいたします。
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