カートをみる マイページへログイン ご利用案内 ご意見 お客様の声 サイトマップ

当社コンサルテーションへのご要望・ご質問・お問合せはこちら

HOME > サイエンス&テクノロジセミナー

商品一覧

並び順:

説明付き / 写真のみ

471件~480件 (全600件)  48/60ページ
最初へ  前の5ページへ  前へ 46 47 48 49 50 次へ  次の5ページへ  最後へ

(9/30)細胞医薬における承認申請・審査とCMC・非臨床の留意点

(9/30)細胞医薬における承認申請・審査とCMC・非臨床の留意点

60,500円(税込)
細胞医薬における承認申請・審査とCMC・非臨床の留意点
(9/30)GAMP 5 2nd Editionの重要点解説と現行規制の比較・CSV対応

(9/30)GAMP 5 2nd Editionの重要点解説と現行規制の比較・CSV対応

55,000円(税込)
GAMP 5 2nd Editionの重要点解説と現行規制の比較・CSV対応
(9/30)AI画像処理・画像生成技術のための画像品質評価

(9/30)AI画像処理・画像生成技術のための画像品質評価

44,000円(税込)
画像処理アルゴリズムや画像生成AIの発展に伴い、画像品質を客観的に評価する技術の重要性が急速に高まっている。従来のPSNRやSSIMなどの評価指標に加え、近年では人間の視覚特性を考慮したNo-Reference Image Quality Assessment(NR-IQA)やDeep Learningを用いた画像品質評価技術が広く利用されるようになった。
(9/30)「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Dセミナー】応用 「プロセスバリデーションと品質年次照査への応用」

(9/30)「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Dセミナー】応用 「プロセスバリデーションと品質年次照査への応用」

33,000円(税込)
「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Dセミナー】応用 「プロセスバリデーションと品質年次照査への応用」
(9/30)ISO 10993-1最新版と国内ガイダンスから紐解く 医療機器の生物学的安全性試験の要点と生物学的リスク分析の概要

(9/30)ISO 10993-1最新版と国内ガイダンスから紐解く 医療機器の生物学的安全性試験の要点と生物学的リスク分析の概要

44,000円(税込)
2025年11月にISO 10993-1の第6版が出ました。国内では、これに遡る同年。3月に「生物学的安全性評価の基本的考え方」の全部改正版が、6月にはPMDAから「生物学的安全性評価の審査ポイント」が出されました。いずれもISO 10993-1の改訂を見込んで提示され、今までになかったことです。
(9/30)トライボロジーの基礎とプラスチック材料の摩擦摩耗特性向上

(9/30)トライボロジーの基礎とプラスチック材料の摩擦摩耗特性向上

44,000円(税込)
高分子材料(プラスチック材料)は軽量・安価・成形性などに優れ、また低摩擦を示す材料が多いことから摩擦面への適用が進んでいますが、金属材料と比較すると機械的強度や耐熱性に劣ることがネックになっています。摩擦が関連するシーンでプラスチックを扱っている、もしくはこれから扱う方で、トライボロジーのことはよく分からないという方を対象にしています。
(9/30)「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Cセミナー】応用 「安定性試験への応用」

(9/30)「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Cセミナー】応用 「安定性試験への応用」

33,000円(税込)
「ゼロから学ぶ医薬品品質統計」総合コース 【Cセミナー】応用 「安定性試験への応用」
(9/30)Excelと例題で学ぶ 直交表実験入門

(9/30)Excelと例題で学ぶ 直交表実験入門

39,600円(税込)
実験計画法の基本的な考え方と、直交表を用いた実験設計・解析の進め方を解説する。
(10/2)導電性高分子の基礎と高導電化・高機能化技術および最新技術動向

(10/2)導電性高分子の基礎と高導電化・高機能化技術および最新技術動向

44,000円(税込)
導電性高分子は電解コンデンサ、透明帯電防止および透明導電電極として実用化されています。いずれの用途においても、PEDOT:PSSは有力な材料ですが、より高い電気伝導度が求められています。最近では15,000 S/cmを越える超高導電PEDOT:PSSも報告されています。また、PEDOT系以外の導電性高分子の高導電化に関しても多くの手法が開発され、10^5 S/cmを超えるものも報告されております。
(10/2)ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

(10/2)ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

55,000円(税込)
最先端半導体集積回路の作製に必須となっているALD(Atomic Layer Deposition、原子層堆積法)は、数ナノメートル程度の極薄膜作製手法として膜厚の制御性や再現性に優れ、3次元立体構造への均一製膜なども可能であるという特徴を持っています。そのため、ULSIゲート酸化膜、メモリキャパシタ形成などに応用展開されています。

471件~480件 (全600件)  48/60ページ
最初へ  前の5ページへ  前へ 46 47 48 49 50 次へ  次の5ページへ  最後へ

ページトップへ