サイエンス＆テクノロジ主催セミナー

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(9/29)【オンデマンド】ICH-E6（R3）について（R2）とのGAPと国内実装に向けた対応方針を考える

55,000円(税込)

【オンデマンド】ICH-E6（R3）について（R2）とのGAPと国内実装に向けた対応方針を考える

(9/29)【オンデマンド】治験に関わるベンダーの要件調査と監査－GCPシステム監査の応用、適合性調査と監査事例－

49,500円(税込)

治験依頼者が治験の依頼と管理において活用しているベンダーはCROの他に、フェーズIや生物学的同等性試験の専門施設、さらに薬物濃度測定や臨床検査のラボ、治験薬保管施設や治験薬運搬業者、等々があります。これらのベンダーを適切に選定するための要件調査には、GCPシステム監査の考え方と手法が応用されています。

(9/29)【オンデマンド】3極(日欧米)GCP査察・社内監査の事例と指摘解決・予防にむけたQMS実装と品質管理手法

55,000円(税込)

【オンデマンド】3極(日欧米)GCP査察・社内監査の事例と指摘解決・予防にむけたQMS実装と品質管理手法

(9/29)利益を逃がさない意思決定をするための正しい設備投資効果の分析とR&Dの成果・テーマ評価の実践

44,000円(税込) ～

設備投資効果分析を実施しても、企業が本来得られる利益を逃しているケースをDRやコンサルで多々目にしてきました。生成AIに分析させても正しい解答は得られていません。なぜなら、分かりやすいセミナーや実践的な書籍や記事がなかったからだと思われます。いままでのセミナーと何処が違うのか？ポイントは次の通り。1. 技術者が設備やソフトウェア投資効果を正しく把握して利益に直結できる。

(9/29)高分子の設計・加工に役立つ基盤技術知識【レオロジー】＆【副資材】２セット受講

70,400円(税込) ～

高分子の設計・加工に役立つ基盤技術知識【レオロジー】＆【副資材】２セット受講

(9/29)AIデータセンター向け超高速光トランシーバの最新動向

29,700円(税込) ～

ChatGPT等の生成系AIの適用が全世界的な広まりを見せる中、データセンタ内のAIクラスタでは800Gbps及び1.6Tbps光トランシーバの適用が急速に進んでおり、さらに3.2Tbps及び3.2Tbps超級の光トランシーバの実現に向けた光トランシーバのフォームファクタ、電気・光インターフェースの規格化の検討や光部品の開発が本格化している。

(9/29)【オンデマンド配信】患者価値起点の統合エビデンス戦略～医薬品開発における市場調査・RWE・HTAで描く上市設計～

39,600円(税込) ～

現代の医薬品上市は、単なる承認取得に留まらず、患者にとって真の価値提供を追求し、迅速なアクセス、適切な使用、そして継続的な定着が不可欠です。本講座では、研究・開発からマーケットアクセスまで一貫して上市を主導してきた講師の経験に基づき、患者中心主義を核としたローンチ戦略を解説します。

(9/29)高分子技術者のためのレオロジー【入門と実践活用】

44,000円(税込) ～

高分子物質の最大の特徴は分子が著しく長いことであり、その特徴を上手く利用して材料設計や成形加工を行わねばなりません。そのためには高分子レオロジーの知見が必要不可欠です。本講座では、数式をほとんど使わずにレオロジーの本質を理解していただき、それを高分子材料の設計や構造解析、さらにはトラブルシューティングを含めた成形加工技術に応用してもらうことを目的としています。

(9/29)【オンデマンド配信】ICH Q2(R2)、Q14をふまえた承認申請時の分析法バリデーションの留意点

39,600円(税込) ～

ICH Q2分析法バリデーションガイドラインは、1996年に作成されてから四半世紀経ち、R2改訂版が完成し、日本での通知も2025年中に出る見込みです。改定に当たっては、多変量解析を用いた分析法を追加するなど、最新の分析技術を取り入れた内容になります。また、分析法の開発に関する新たなガイドラインがICH Q14として登場しました。

(9/30)半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術

39,600円(税込) ～

半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、ウェット洗浄には、微小・ナノパーティクルを高い除去率で取り除く一方で、微細パターンを壊さず、再付着、ウォーターマーク、乾燥不良、帯電・ESDを抑えるという相反する要求が強まっています。

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(9/29)高分子の設計・加工に役立つ基盤技術知識【レオロジー】＆【副資材】２セット受講

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(9/29)【オンデマンド配信】ICH Q2(R2)、Q14をふまえた承認申請時の分析法バリデーションの留意点

(9/30)半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術